Reference number
ISO 21859:2019
© ISO 2024
International Standard
ISO 21859:2019
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
Edition 1
2019-06
Preview
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2019)
Последний раз этот публикация был пересмотрен в  2024. Поэтому данная версия остается актуальной.

ISO 21859:2019

Язык
Формат
CHF 42
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2019-06
    Этап
    : Подтверждение действия международного стандарта [90.93]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 206
    ICS :
    81.060.30 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 81
  6. 81.060
  7. 81.060.30
  8. ISO 21859:2019