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This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.


Informations générales 

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2019-06
  • Edition
     : 1
  • Comité technique
     : ISO/TC 206 Céramiques techniques
  • ICS
     :
    81.060.30 Céramiques techniques avancées

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